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    • 適用於高溫（wēn）高壓條件下的幹法除塵設備

    • 本技術研發（fā）的目的在於提供一種適用於高溫高壓（yā）流化床粉體反反應的幹法除塵（chén）器，以解決實際生產過程中遇到的除塵（chén）效果不好、操作困難和除（chú）塵設備成本高（gāo）的技術問題，在三氯氫矽、多晶矽冷氫化以及有機矽合（hé）成製備的工藝中廣泛的應用（yòng）。...

    • 反應尾氣中氯氣的（de）無害化處理裝置

    • 本（běn）技術研發要解決（jué）的（de）技術（shù）問題是克服現有的缺陷，提供一（yī）種（zhǒng）反應尾氣中氯氣的無害化處理裝置，多次的淨化工序提高了尾氣（qì）中（zhōng）氯氣的吸收效率，自動（dòng）化程度較高（gāo），控製（zhì）精準且操作簡便，實現了反應尾氣中氯氣無害化處（chù）理過程的連續運行，實現對（duì）循環使用的氫氧化鈉溶液進行...

    • 鈣鈦礦用（yòng）高純碘化鉛類金（jīn）屬（shǔ）鹵化物的（de）工（gōng）業化生產

    • 本技術研發要解決的（de）技術問題是克服現有的缺陷，提供一（yī）種高純碘化鉛類金屬鹵化物生產裝置，實現（xiàn）鈣鈦礦用高純碘化（huà）鉛類金屬鹵（lǔ）化物的工業化製備，自動（dòng）化程度較高（gāo），可（kě）為高純（chún）碘（diǎn）化鉛類金屬鹵化物節約人工成本，通過降（jiàng）溫重結晶的方法製（zhì）備（bèi）的產品純度較高，提高高純（chún）碘化...

    • CMP研磨液專用氣相二氧（yǎng）化矽

    • CMP (ChemicalMechanicalPolishing)化學機械拋光是一個化學（xué）腐蝕和機械摩（mó）擦的結合。是目前較為普遍的半導（dǎo）體材料表麵平整技術，兼收了機械摩擦和（hé）化學腐蝕的優點，從而避免了由單純機械拋（pāo）光造成的表（biǎo）麵損傷和由單純化學拋光易造...

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